22纳米 国产光刻机突破22纳米！还存在一定差距，依然值得我们骄傲

随着中国科技的发展，在许多领域已经超过了世界其他国家，处于领先地位。众所周知，我国的科研开发起步比较快，实现弯道超车值得我们欣喜。然而，事实上，我国在一些尖端技术上仍然不能取得完美的突破。为什么外国人可以开发？毕竟是人们几十年的研究生学习经验积累下来的，在我国度过的时间也不是别人可比的。

还有一个原因是一些发达国家经常对我国实施技术封锁，所以要取得完美的突破已经来不及了。比如光刻机，其实国产光刻机已经达到了22纳米，离荷兰光刻机技术还很远，但是值得我们骄傲。为什么？让我们互相了解一下。

众所周知，即使在西方国家封锁我们技术的时候，还是有科技企业突破了天空，那就是华为5G，华为5G及其芯片可以说是技术非常高，这也是美国吃醋的原因。其实我国的芯片技术也是一个突破。在世界闻名的北斗卫星导航系统中，其中使用的3号芯片已经超过了22纳米的上限。上海微电子经过长时间的艰苦研究，也开发出了一种能够生产22纳米的光刻机。这些成就足以让我们骄傲。

但是，有些毫无戒心的朋友很好奇。22 nm的顶级光刻技术差距还是很大的。怎样才能达到高精度的水平？其实答案可想而知。我国对光刻机的尖端技术一直处于相对落后的状态。而22nm，可以认为是里程碑式的进步。就像第一个登上月球的人一样，迈出第一步并不容易。为什么要他在月球上打滚？

其实在上海微电子突破22 nm之前，国产光刻机保留了制造90 nm的技术，从“90”到“22”，可想而知其中有艰辛。足够可以称之为里程碑式的进步。相信在突破关键领域后，先进光刻技术的研发速度会越来越快。

这也预示着中国制造的“中芯”正在崛起！同时，西方发达国家开发的硅基芯片在物理上已经达到极限，也就是说他们的技术已经达到了“天花板”，很难继续突破。这也证明了中芯已经达到世界领先水平，指日可待。

而如果我国研制成功“碳基芯片”，就可以直接消除对光刻技术的需求，瞬间打破各国对我国造成的技术封锁。希望这一天早日到来。所以，这个进步值得我们骄傲。对此你怎么看？欢迎在下面赞转发，并留言评论！下篇再见！